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在中国人民忧心忡忡之际，中科院一篇关于开发新型5nm超精密光刻机的走红了。许多自传称，国产芯片已被保存，但不久，中国科学院删除了这篇约5nm的新闻，官员没有对此事作出任何回应。
事实上，这项技术还处于测试阶段，要真正取代光刻机还有很长的路要走。几十年前，我国确认了光刻机的重要性和战略，并最终在我国开始了光刻机的研发计划。然而，由于我国科学技术产业的落后，GK3接触式光刻机是1977年才发展起来的，与当时的1 1投影光刻机和分步投影光刻机有很大不同。
ASML的崛起改变了现有光刻机的格局，不仅赶上了尼康和佳能，而且占据了很大的市场份额。然而，我国与西方还存在一些差距，ASML的出现扩大了我国光刻机的距离，加之政策支持的减少和西方技术的封锁，导致了国内光刻机的困境。然而，这仍然是一个意识形态问题，真正导致了国内光刻机的破产。在"建筑不如买"的思想转变下，许多人选择购买现成的光刻机，迫使我国光刻机的发展暂停。
幸运的是，中国也开始了光刻机的发展，2016年上海微电子公司推出了第一台90 nm工艺投影光刻机，但不久，西方对中国元件实施了禁运，导致部分光刻机部件无法补充，最终无法进行大规模的大规模生产。
除了西方国家的局限性外，我国光刻机研发困难的主要原因是意识形态问题，当"建筑不如买"成为主流时，我们动摇了自主研究技术的决心，因此在任何领域，我们都无法产生影响，一旦"不可能"和"不可能"出现在我们的脑海中，我们就已经失败了。